Giới thiệu ngắn gọn về công nghệ HIPIMS

Công nghệ phún xạ magnetron được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực lớp phủ. Nó thường được sử dụng cho cả ứng dụng sơn trang trí và các ứng dụng phủ công cụ. Nhưng vẫn còn nhiều hạn chế của công nghệ phún xạ magnetron. Ví dụ, mật độ công suất của các mục tiêu phún xạ magnetron bị ảnh hưởng bởi tải nhiệt đích. Dưới dòng phún xạ lớn, các ion dương quá mức bắn phá mục tiêu, có thể khiến mục tiêu phún xạ quá nóng và cháy, bên cạnh đó, năng lượng của phún xạ bị hạn chế, và tỷ lệ ion hóa kim loại không cao.

Trong những năm gần đây, công nghệ phún xạ xung công suất cao (HiPIMS) đã được phát triển trong và ngoài nước, làm suy yếu rất nhiều những hạn chế này. Công suất đỉnh của HiPIMS gấp 100 lần so với phún xạ magnetron thông thường, và vật liệu phún xạ có tốc độ ion hóa rất cao, chùm tia ion hóa cao này không chứa các hạt lớn, đó là lý do tại sao HiPIMS có thể dễ dàng thu được lớp phim chất lượng cao .

Vì thời gian tác động xung chỉ trong vài trăm micro giây, công suất trung bình của HiPIMS tương đương với công suất của phún xạ magnetron thông thường, do đó yêu cầu làm mát mục tiêu magnetron không tăng lên. Mặc dù sức mạnh tức thời của phún xạ xung điện công suất cao là rất cao, sức mạnh trung bình của nó không quá cao, vì vậy nó có thể được quảng bá rộng rãi.