Tiêm ion
Dec 07, 2019| Tiêm ion
Chùm ion có năng lượng 5 ~ 500keV bắn phá trực tiếp bề mặt phôi. Vì năng lượng ion khá lớn, các ion có thể khoan vào lớp bề mặt của phôi đã xử lý, thay đổi thành phần hóa học của lớp bề mặt và do đó thay đổi tính chất cơ học và vật lý của lớp bề mặt của phôi.
Phương pháp này không bị giới hạn bởi nhiệt độ, yếu tố và kích thước hạt được tiêm và có thể tiêm các ion khác nhau (như phốt pho, nitơ, carbon, v.v.) theo các yêu cầu khác nhau. Phần tử bề mặt được bơm có độ đồng đều tốt, độ tinh khiết cao, có thể kiểm soát được khối lượng và độ sâu của hạt được bơm, nhưng chi phí thiết bị cao, chi phí cao và năng suất thấp.
Máy quang học chùm tia điện tử IKS PVD ， IKS-OPT2700, Chi tiết khác, liên hệ chào mừng iks.pvd@foxmail.com