Khái niệm quy trình phủ phún xạ
Aug 14, 2020| Khái niệm quy trình phủ phún xạ
Cái gọi là lớp phủ phún xạ đề cập đến phương pháp tạo màng bằng cách bắn phá vật liệu đích bằng các hạt mang năng lượng (chẳng hạn như ion dương) trong buồng chân không, để các nguyên tử hoặc nhóm trên bề mặt của vật liệu đích có thể thoát ra. Các nguyên tử thoát ra tạo thành một màng trên bề mặt phôi với cùng thành phần với vật liệu đích. Phương pháp chuẩn bị phim này được gọi là lớp phủ phún xạ. Hiện nay, phương pháp phún xạ được sử dụng chủ yếu để tạo màng kim loại hoặc hợp kim, đặc biệt để chế tạo màng phản xạ tia hồng ngoại điện cực và bề mặt kính. Ngoài ra, phún xạ còn được sử dụng để điều chế các màng chức năng, chẳng hạn như màng gốm dẫn điện trong suốt in2O3-sno2 trong các thiết bị màn hình tinh thể lỏng.
Công ty IKS PVD, máy phủ trang trí, máy phủ dụng cụ, mahcine phủ quang, dây chuyền hút chân không PVD. Liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, E-mail: iks.pvd@foxmail.com