Lớp phủ phún xạ chân không
Apr 29, 2024| Lớp phủ phún xạ chân không
Nguyên lý cơ bản của phún xạ chân không là tạo ra sự phóng điện phát sáng argon trong điều kiện chân không chứa đầy khí argon (Ar), sau đó nguyên tử argon (Ar) ion hóa thành ion argon (Ar+), ion argon tăng tốc dưới tác dụng của lực điện trường để bắn phá mục tiêu cực âm làm bằng vật liệu mạ, mục tiêu sẽ được phun ra ngoài và lắng đọng trên bề mặt phôi.
Tùy thuộc vào dòng điện được sử dụng, quá trình này có thể được chia thành phún xạ DC sử dụng phóng điện phát sáng DC, phún xạ RF phóng điện phát sáng RF và phóng điện phát sáng magnetron (M) do phún xạ magnetron gây ra.
Công ty IKS PVD, máy phủ trang trí, máy phủ dụng cụ, máy phủ DLC, máy phủ quang học, dây chuyền sơn chân không PVD, dự án chìa khóa trao tay đều có sẵn. Hãy liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, E-mail: iks.pvd@foxmail.com