Lắng đọng hơi hóa học (CVD) là gì

Lắng đọng hơi hóa học (CVD) là gì? Những điểm mạnh và điểm yếu chính là gì?

Lắng đọng hơi hóa học là một quá trình trong đó một hoặc nhiều khí phản ứng trên chất rắn được nung nóng và một màng rắn được phủ.
Ưu điểm: (1) Yêu cầu độ chân không không cao, thậm chí không thể cần chân không, chẳng hạn như tốc độ lắng đọng nhiệt (2) nhanh, CVD trong khí quyển có thể đạt 1 m / phút (3) so với PVD. (4) Đa dạng hóa các thành phần lớp phủ, như kim loại, phi kim loại, chất bán dẫn, vật liệu quang điện, màng kim cương (5) có thể có hình dạng phức tạp của lớp phủ bề mặt, và thậm chí thành gốm xốp (6) CVD áp lực thậm chí có thể mạ hàng chục con chip cùng một lúc: (1) Cơ chế phản ứng nhiệt động và phản ứng hóa học không dễ hiểu hoặc không được hiểu rõ (2) cần phải được thực hiện ở nhiệt độ cao, một số chất nền không thể chịu được, và ngay cả với hiệu ứng màng phủ (3) khí phản ứng có thể bị ăn mòn, độc hại hoặc gây nổ, việc xử lý cẩn thận (4) các sản phẩm phản ứng có thể vẫn còn trên lớp phủ, trở thành tạp chất (5) là khó khăn.

Công ty IKS PVD, máy phủ trang trí, máy phủ dụng cụ, mahcine phủ quang, dây chuyền hút chân không PVD. Liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, E-mail: iks.pvd@foxmail.com