Công nghệ PVD bốn bước quy trình
Apr 06, 2020| Công nghệ PVD gồm bốn bước quy trình (1) làm sạch phôi: đưa vào nguồn điện dc, xả phát sáng argon như ion argon, bắn phá ion argon trên bề mặt phôi, các hạt bề mặt và các phần bẩn của phôi bị văng ra; (2) quá trình khí hóa của vật liệu mạ: nghĩa là, sau khi đưa vào dòng điện xoay chiều, sự hóa hơi của vật liệu mạ. (3) sự di chuyển của các ion vật liệu mạ: sau khi va chạm và điện trường cao thế, các nguyên tử, phân tử hoặc ion từ nguồn khí hóa đã lao thẳng vào phôi ở tốc độ cao; (4) các nguyên tử, phân tử hoặc ion vật liệu mạ được lắng đọng trên đế: khi các ion vật liệu bay hơi trên bề mặt phôi vượt quá số lượng ion tràn, chúng dần dần tích tụ để tạo thành một lớp phủ chắc chắn trên bề mặt của phôi. Sau khi ion hóa hạt mạ, vật liệu bay hơi có ba nghìn đến động năng của năm nghìn vôn electron, tạo tác bắn phá tốc độ cao, không chỉ tốc độ lắng nhanh và có thể xuyên qua bề mặt, tạo thành một lớp khuếch tán ma trận sâu , độ sâu khuếch tán giao diện của mạ ion sẽ là bốn đến năm micron, nghĩa là, hơn độ sâu khuếch tán của lớp phủ chân không thông thường sâu hàng chục lần, thậm chí một trăm lần và kết dính với nhau rất nhanh.
Công ty TNHH IKS PVD Technology (Thẩm Dương) Nhà sản xuất máy sơn chân không PVD từ Trung Quốc, sản phẩm chính của chúng tôi: mahcine sơn trang trí, máy phủ công cụ, máy phủ quang, dây chuyền PVD. Chi tiết khác, liên hệ: iks.pvd@foxmail. com