nguyên lý cơ bản của lớp phủ phún xạ
Apr 02, 2020| nguyên lý cơ bản của lớp phủ phún xạ: trong điều kiện chân không của khí argon (Ar), phóng điện phát sáng khí argon, sau đó các nguyên tử argon (Ar) bị ion hóa thành ion argon (Ar), ion argon trong hoạt động của lực điện trường, tăng tốc bắn phá vật liệu mục tiêu catốt được chế tạo bởi vật liệu mạ, vật liệu đích sẽ được phun ra và lắng đọng trên bề mặt phôi. Các ion sự cố trong màng phún xạ thường thu được bằng cách phát sáng trong phạm vi l0-2pa ~ 10Pa, do đó các hạt phún xạ rất dễ va chạm với các phân tử khí trong buồng chân không khi bay về phía ma trận, làm cho hướng chuyển động ngẫu nhiên và bộ phim ký gửi dễ dàng để được thống nhất.
Công ty TNHH IKS PVD Technology (Thẩm Dương) Nhà sản xuất máy sơn chân không PVD từ Trung Quốc, sản phẩm chính của chúng tôi: mahcine sơn trang trí, máy phủ công cụ, máy phủ quang, dây chuyền PVD. Chi tiết khác, liên hệ: iks.pvd@foxmail. com