Làm bay hơi chân không là gì
Dec 22, 2017| Làm bay hơi chân không là một quá trình được sử dụng để gửi tiền lớp vật liệu nguyên tử của nguyên tử hay phân tử của phân tử trên một bề mặt vững chắc. Các quá trình hoạt động ở áp suất dưới áp suất khí quyển (tức là, Máy hút). Toàn lớp có thể đi từ một độ dày của một nguyên tử đến mm, hình thành cấu trúc rẽ. Nhiều lớp vật liệu khác nhau có thể được sử dụng, ví dụ cho hình thức quang sơn. Quá trình này có thể có đủ điều kiện dựa trên nguồn hơi;làm bay hơi vật lý lắng đọng sử dụng một nguồn chất lỏng hoặc rắn và hơi hóa chất lắng đọng sử dụng một hơi hóa học.
Mô tả
Môi trường chân không có thể phục vụ cho một hoặc nhiều mục đích:
● giảm mật độ hạt do đó có nghĩa là đường dẫn miễn phí cho các vụ va chạm là dài
● giảm mật độ hạt không mong muốn các nguyên tử và phân tử (chất gây ô nhiễm)
● cung cấp một môi trường plasma áp suất thấp
● cung cấp một phương tiện để kiểm soát khí và thành phần bay hơi
● cung cấp một phương tiện để kiểm soát khối lượng dòng chảy vào buồng xử lý.
Ngưng tụ các hạt có thể được tạo ra trong nhiều cách khác nhau:
● nhiệt bay hơi, bốc hơi (lắng đọng)
● tạo
● cathodic hồ quang bay hơi
● laser cắt bỏ
● phân hủy của một tiền chất hóa học bay hơi, hơi hóa chất lắng đọng
Trong phản ứng lắng đọng, chất liệu coïc phản ứng hoặc với một thành phần của môi trường dạng khí (Ti + N→TiN) hoặc với một loài đồng coïc (Ti + C → TiC). Một môi trường huyết tương hỗ trợ kích hoạt khí loài (N2→ 2N) và trong phân hủy của tiền chất hóa học bay hơi (SiH4→ Si + 4 H). Plasma cũng có thể được sử dụng để cung cấp các ion cho bay hơi bằng cách tạo hoặc pháo kích của bề mặt cho sputter làm sạch và bắn phá các vật liệu coïc để densify cấu trúc và chỉnh thuộc tính (ion mạ).
Các loại
Khi nguồn hơi là một chất lỏng hoặc rắn quá trình được gọi là vật lý vapor deposition (PVD). Khi nguồn là một tiền chất hóa học bay hơi, quá trình được gọi là hóa học bay hơi lắng đọng (CVD). Sau này có một số biến thể: áp lực hơi hóa chất lắng đọng (LPCVD), lắng đọng huyết tương tăng cường hóa chất bay hơi (PECVD) và sự trợ giúp của plasma CVD (PACVD). Thường một sự kết hợp của các quá trình PVD và CVD được sử dụng trong các buồng xử lý giống nhau hoặc được kết nối.
Ứng dụng
● Dẫn điện: kim loại phim, minh bạch dẫn oxit (TCO), phim siêu dẫn và chất phủ
Thiết bị bán dẫn: bộ phim bán dẫn, bộ phim cách điện
● Các tế bào năng lượng mặt trời
● Phim quang học: lớp phủ chống phản chiếu, bộ lọc
● Màng lợp: gương, gương hot
● Tribological sơn: Các vật liệu cứng, lớp phủ chống xói mòn, chất bôi trơn rắn phim
● Bảo tồn năng lượng và thế hệ: thấp emissivity kính lợp, các vật liệu hấp thụ năng lượng mặt trời, gương, tế bào quang điện năng lượng mặt trời màng mỏng, thông minh phim
● Từ bộ phim: từ ghi âm
● Phổ biến hàng rào: gas permeation rào cản, các rào cản permeation hơi, trạng thái rắn diffusion rào cản
● Bảo vệ chống ăn mòn
● Ô tô các ứng dụng: đèn phản xạ và cắt các ứng dụng
● Caùch baám ghi vinyl, sản xuất bản ghi vàng và bạch kim
Độ dày chưa đến 1 micrômét thường được gọi là một màng mỏng trong khi độ dày lớn hơn một micrômét được gọi là một lớp phủ.