Đặc điểm của PVD Nanocoatings
May 22, 2019| Đặc điểm của vật liệu nano PVD
Có ba phương pháp cơ bản để lắng đọng hơi vật lý của lớp phủ nano: bay hơi chân không, phún xạ và lắng đọng ion. Sự bay hơi là làm bay hơi vật liệu nguồn thành các hạt (nguyên tử hoặc ion) bằng phương pháp đốt nóng bằng tia điện tử, đốt nóng bằng laser, v.v. và sau đó ký gửi chúng trên bề mặt phôi để tạo thành một lớp phủ. Lớp phủ có lỗ chân lông tương đối nhiều hơn, có độ bám dính chung với chất nền. Sputtering mạ lấy phôi làm cực dương và mục tiêu làm cực âm. Ion argon được tạo ra bởi quá trình ion hóa argon được sử dụng để thổi bay các nguyên tử mục tiêu và lắng đọng chúng trên bề mặt phôi. Lớp phủ có ít lỗ chân lông và được kết hợp tốt với chất nền. Mạ ion là làm cho vật liệu thành các nguyên tử bằng phương pháp bay hơi, phún xạ hoặc hóa học và được ion hóa bởi plasma xung quanh chất nền. Dưới tác động của điện trường, lớp phủ được hình thành bằng cách bay đến chất nền có động năng lớn hơn. Lớp phủ đồng đều và dày đặc, về cơ bản không có lỗ chân lông, và kết hợp tốt với chất nền.
Các ống nano oxit titan đã được điều chế bằng phương pháp phún xạ từ trường dc. Áp suất buồng phun được bơm lên 1,3 10-4pa, và sau đó chứa đầy Ar, O2 và CF4, tổng áp suất là 1,3pa (lượng phun được kiểm soát trong quá trình phún xạ). Độ dày của màng được thông qua dưới điện áp phún xạ không đổi (700 v) để thay đổi điều kiện phún xạ điều khiển, điều khiển nhiệt độ tấm cơ sở thời gian trong 100 ~ 400oC . Đặc tính điện hóa đã được tìm thấy trong LiC1O4 và propylene carbonate. Tuy nhiên, bề mặt màng bị tác động bởi khí và các hạt tích điện, và hiệu suất của màng bị ảnh hưởng rất lớn bởi trạng thái plasma và điều kiện phún xạ không dễ kiểm soát, đây cũng là nhược điểm lớn nhất của nó.
Để cải thiện hơn nữa chất lượng của lớp phủ nano, các công nghệ PVD tiên tiến khác nhau đã được phát triển và có nguồn gốc thông qua sự kết hợp của các công nghệ khác nhau. Các kỹ thuật phún xạ từ khác nhau đã được phát triển bằng cách đưa từ trường vào kỹ thuật phún xạ bị chi phối bởi điện trường. Để tăng cường quá trình hình thành hóa học, khí phản ứng đã được giới thiệu trong quá trình bay hơi, phún xạ và mạ ion, do đó công nghệ bay hơi phản ứng, công nghệ phún xạ phản ứng và công nghệ mạ ion phản ứng đã xuất hiện. Ngoài ra, còn có lắng đọng laser xung (PLD), phún xạ từ (MSPLD), phún xạ ion hóa (phún xạ ion hóa), epit wax chùm phân tử (MBE), tăng trưởng di chuyển và công nghệ màng mới khác.
Có thể thấy rằng với sự phát triển của khoa học và công nghệ, ranh giới giữa CVD và PVD không rõ ràng và cả hai thấm vào nhau, do đó làm cho hai công nghệ chuẩn bị lớp phủ trở nên hoàn hảo hơn.
IKS PVD machine máy phủ trang trí máy sơn công cụ ， liên hệ với iks.pvd@foxmail.com
