Tổng quan về công nghệ HiPIMS
Jun 21, 2018| Công nghệ phún xạ magnetron được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực chuẩn bị màng mỏng. Các ứng dụng của lớp phủ trang trí và lớp phủ công cụ là tương đối phổ biến.
Tuy nhiên, công nghệ xử lý phún xạ magnetron có nhiều hạn chế. Ví dụ, khi dòng phún xạ lớn, có nghĩa là mật độ công suất của một mục tiêu phún xạ magnetron bị giới hạn bởi tải nhiệt mục tiêu, việc bắn phá mục tiêu với các ion dương quá mức có thể làm cho mục tiêu phún xạ quá nóng và cháy. Bên cạnh đó, nó cũng có những nhược điểm của năng lượng phún xạ giới hạn và tỷ lệ ion hóa kim loại thấp.
Trong những năm gần đây, công nghệ phún xạ xung công suất cao (HiPIMS) đã được phát triển trong và ngoài nước, và hạn chế này đã bị suy yếu rất nhiều. Công suất đỉnh của phún xạ magnetron xung công suất cao gấp khoảng 100 lần so với phún xạ magnetron thông thường. Tốc độ ion hóa của vật liệu phún xạ là rất cao, và chùm tia ion hóa cao này không chứa các hạt lớn. Vì vậy, phim chất lượng cao có thể dễ dàng thu được bằng công nghệ HiPIMS.
Vì thời gian tác động xung chỉ trong vài trăm micro giây, công suất trung bình của HiPIMS có thể so sánh với công suất trung bình của phún xạ magnetron, do đó yêu cầu làm mát mục tiêu magnetron không tăng lên. Mặc dù sức mạnh tức thời của phún xạ xung điện công suất cao là cao, nhưng công suất trung bình của nó không cao, vì vậy nó có thể được sử dụng rộng rãi.