Công nghệ phủ phún xạ Magnetron

Công nghệ phủ phún xạ Magnetron có những ưu điểm sau · Tốc độ lắng đọng lớn. Do điện cực magnetron tốc độ cao nên dòng ion thu được lớn, giúp cải thiện hiệu quả tốc độ lắng và tốc độ phún xạ của quá trình phủ. So với các quy trình phủ phún xạ khác, phún xạ magnetron có năng suất sản xuất cao và sản lượng lớn và được sử dụng rộng rãi trong các ngành sản xuất công nghiệp khác nhau. · Hiệu suất năng lượng cao. Mục tiêu phún xạ magnetron thường chọn điện áp trong phạm vi 200V-1000V, thường là 600V, vì điện áp 600V chỉ nằm trong phạm vi hiệu suất năng lượng hiệu quả cao nhất. · Năng lượng phún xạ thấp. Điện áp mục tiêu của magnetron được đặt ở mức thấp và từ trường hạn chế plasma ở gần cực âm, ngăn chặn các hạt tích điện năng lượng cao hơn xảy ra sự cố trên bề mặt. · Nhiệt độ bề mặt thấp. Cực dương có thể được sử dụng để dẫn hướng các electron được tạo ra trong quá trình phóng điện mà không cần nối đất với chất nền, điều này có thể làm giảm hiệu quả sự bắn phá của electron lên chất nền, do đó nhiệt độ của chất nền thấp, rất phù hợp với một số chất nền nhựa lớp phủ không chịu được nhiệt độ cao. · Khắc không đều trên bề mặt mục tiêu phún xạ magnetron. Việc khắc bề mặt không đồng đều của mục tiêu phún xạ magnetron là do từ trường không đồng đều của mục tiêu và tốc độ ăn mòn vị trí cục bộ của mục tiêu lớn nên tỷ lệ sử dụng hiệu quả của mục tiêu thấp (chỉ 20%-30 % tỷ lệ sử dụng). Do đó, nếu muốn cải thiện tốc độ sử dụng của mục tiêu, bạn cần thay đổi sự phân bố từ trường bằng một số phương tiện nhất định hoặc sử dụng nam châm để di chuyển trong cực âm, điều này cũng có thể cải thiện tốc độ sử dụng của mục tiêu. · Mục tiêu tổng hợp. Màng hợp kim mạ mục tiêu tổng hợp có thể được thực hiện. Hiện nay, màng hợp kim Ta-Ti, (Tb-Dy) -Fe và Gb-Co đã được mạ thành công bằng quy trình phún xạ mục tiêu magnetron tổng hợp. Có bốn loại cấu trúc mục tiêu tổng hợp, đó là mục tiêu Khảm tròn, mục tiêu Khảm vuông, mục tiêu Khảm vuông nhỏ và mục tiêu Khảm hình quạt, trong đó cấu trúc mục tiêu Khảm hình quạt là tốt nhất. · một loạt các ứng dụng. Nhiều nguyên tố có thể được lắng đọng trong quá trình phún xạ magnetron, phổ biến là Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, v.v. Công nghệ phủ điều khiển từ tính là một trong những quy trình phủ được sử dụng rộng rãi nhất cho nhiều công nghệ màng chất lượng cao, với các loại màng đa dạng, khả năng kiểm soát độ dày màng mạnh mẽ, cao độ bám dính màng, độ đặc tốt và bề mặt hoàn thiện rất đẹp.

Công ty IKS PVD, máy phủ trang trí, máy phủ dụng cụ, máy phủ DLC, máy phủ quang học, dây chuyền sơn chân không PVD, dự án chìa khóa trao tay đều có sẵn. Hãy liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, E-mail: iks.pvd@foxmail.com