PECVD-áp suất không khí

Khi plasma được hình thành, áp suất khí quá lớn, khí phản ứng trong thiết bị tăng nên tốc độ tăng, nhưng đồng thời áp suất khí quá cao, đường tự do trung bình giảm, không có lợi cho quá trình độ bao phủ của màng lắng đọng trên bước. Áp suất không khí quá thấp sẽ ảnh hưởng đến cơ chế lắng đọng của màng, dẫn đến giảm mật độ của màng và dễ hình thành khuyết kim. Khi áp suất không khí quá cao, phản ứng trùng hợp của plasma rõ ràng được tăng cường, dẫn đến giảm tính đều đặn của mạng tăng trưởng và tăng các khuyết tật.

Công ty IKS PVD, máy sơn trang trí, máy sơn công cụ, máy sơn DLC, máy sơn quang học, dây chuyền sơn chân không PVD, dự án chìa khóa trao tay có sẵn. Liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, Email: iks.pvd@foxmail.com