Quy trình hút bụi | Yêu cầu quá trình làm sạch máy hút chân không

Quy trình hút bụi | yêu cầu quá trình làm sạch máy sơn

Làm sạch chân không thường được định nghĩa là quá trình loại bỏ vật liệu không mong muốn khỏi phôi hoặc bề mặt vật liệu hệ thống trước một quy trình chân không. Cần phải làm sạch bề mặt của các bộ phận chân không, bởi vì nguồn khí và hơi nước gây ra bởi các chất ô nhiễm sẽ làm cho hệ thống chân không không thể có được mức độ chân không cần thiết. Ngoài ra, do sự hiện diện của các chất ô nhiễm, các thành phần chân không sẽ ảnh hưởng đến cường độ kết nối và hiệu suất bịt kín.

A. Làm sạch chân không

Đặt phôi dưới áp suất bình thường hoặc gia nhiệt chân không. Để thúc đẩy sự bay hơi của các tạp chất dễ bay hơi trên bề mặt để đạt được mục đích làm sạch, hiệu quả làm sạch của phương pháp này liên quan đến áp suất môi trường của phôi, thời gian lưu trong chân không, nhiệt độ gia nhiệt, các loại chất ô nhiễm và vật liệu phôi. . Nguyên tắc là làm nóng phôi. Sự giải hấp của các phân tử nước và các phân tử hydrocarbon khác nhau được hấp phụ trên bề mặt được tăng cường. Mức độ tăng cường giải hấp phụ thuộc vào nhiệt độ. Ở độ chân không cực cao, bề mặt phải được làm nóng trên 450 độ để làm sạch ở quy mô nguyên tử. Phương pháp làm sạch sưởi ấm đặc biệt hiệu quả. Nhưng đôi khi, điều trị này có thể có tác dụng phụ. Do quá trình gia nhiệt, một số hydrocacbon nhất định có thể tập hợp thành các cốt liệu lớn hơn và phân hủy đồng thời thành xỉ carbon.

B. Làm sạch tia cực tím

Các hydrocacbon trên bề mặt bị phân hủy bởi tia cực tím. Ví dụ, tiếp xúc với không khí trong 15 giờ có thể tạo ra bề mặt kính sạch. Nếu một bề mặt được làm sạch đúng cách được đặt trong nguồn tia cực tím tạo ra ozone. Một bề mặt sạch (quá trình làm sạch) có thể được hình thành trong vài phút. Điều này cho thấy rằng sự hiện diện của ozone làm tăng tốc độ làm sạch. Cơ chế làm sạch như sau: dưới bức xạ tia cực tím, các phân tử bụi bẩn được kích thích và phân tách, trong khi ozone được tạo ra và tồn tại để tạo ra oxy nguyên tử có hoạt tính cao. Các phân tử bụi bị kích thích và các gốc tự do được tạo ra bởi sự phân ly của bụi bẩn phản ứng với oxy nguyên tử. Hình thức các phân tử đơn giản hơn, dễ bay hơi hơn. Chẳng hạn như H203, CO2 và N2. Tốc độ phản ứng tăng khi tăng nhiệt độ.

C. làm sạch xả

Phương pháp làm sạch này được sử dụng rộng rãi trong việc làm sạch và khử khí của hệ thống chân không cao và chân không cực cao. Đặc biệt trong các thiết bị sơn chân không được sử dụng nhiều nhất. Sử dụng dây nóng hoặc điện cực làm nguồn điện tử. Việc giải hấp khí của bắn phá ion và loại bỏ một số hydrocarbon có thể đạt được bằng cách áp dụng áp suất âm đối với bề mặt cần làm sạch. Hiệu quả làm sạch phụ thuộc vào vật liệu điện cực, hình học và mối quan hệ với bề mặt. Nó phụ thuộc vào số lượng ion trên diện tích bề mặt và năng lượng của các ion. Nó phụ thuộc vào năng lượng điện hiệu quả. Một buồng chân không chứa đầy khí trơ (thường là khí Ar) có áp suất riêng phần thích hợp. Mục đích của việc làm sạch có thể đạt được bằng cách bắn phá ion từ phóng điện phát sáng ở áp suất thấp giữa hai điện cực phù hợp. Trong phương pháp. Khí trơ bị ion hóa và bắn phá thành buồng chân không, các bộ phận cấu trúc khác của buồng chân không và chất nền có thể ngăn chặn một số hệ thống chân không bị nung ở nhiệt độ cao. Làm sạch tốt hơn một số hydrocarbon có thể đạt được nếu thêm oxy vào khí tích điện. Oxy dễ dàng được loại bỏ khỏi hệ thống chân không vì nó oxy hóa một số hydrocarbon thành một chất khí dễ bay hơi. Các thành phần chính của tạp chất trên bề mặt của bình chân không bằng thép không gỉ và chân không cực cao là carbon và hydrocarbon. Nói chung, carbon không dễ bay hơi. Sau khi làm sạch bằng hóa chất, cần phải giới thiệu khí hỗn hợp Ar hoặc Ar + O2 để làm sạch phóng điện phát sáng, để các tạp chất trên bề mặt và khí liên kết trên bề mặt do tác động hóa học có thể được loại bỏ. Trong làm sạch xả phát sáng. Các thông số quan trọng nhất là loại điện áp ứng dụng (ac hoặc dc), điện áp phóng điện, mật độ dòng điện, loại khí nạp và áp suất. Các thông số quan trọng nhất là loại điện áp ứng dụng (ac hoặc dc), điện áp phóng điện, mật độ dòng điện, loại khí nạp và áp suất. Các thông số quan trọng nhất là loại điện áp ứng dụng (ac hoặc dc), điện áp phóng điện, mật độ dòng điện, loại khí nạp và áp suất. Thời gian bắn phá. Hình dạng của điện cực và vật liệu và vị trí của các bộ phận được làm sạch

D. Xả khí

1. Xả nitơ

Khi nitơ được hấp phụ trên bề mặt vật liệu, thời gian hấp phụ cực kỳ ngắn do năng lượng hấp phụ nhỏ. Ngay cả khi nó được hấp phụ trên tường của thiết bị, nó vẫn dễ dàng bị loại bỏ. Thời gian bơm của hệ thống có thể được giảm đáng kể bằng cách sử dụng tính chất nitơ này để xả hệ thống chân không. Ví dụ, trước khi máy phủ chân không được đưa vào khí quyển, nitơ khô trước tiên được đưa vào buồng chân không và sau đó được đưa vào khí quyển, sau đó thời gian bơm của chu kỳ bơm tiếp theo có thể rút ngắn gần một nửa, lý do là năng lượng hấp phụ của nitơ nhỏ hơn nhiều so với các phân tử khí nước. Sau khi nitơ được điền vào chân không, các phân tử nitơ được hấp thụ đầu tiên bởi thành buồng chân không. Khi vị trí hấp phụ được cố định, đầu tiên nó chứa đầy các phân tử nitơ và các phân tử nước bị hấp phụ rất nhỏ, do đó rút ngắn thời gian chiết. Nếu hệ thống bị ô nhiễm bởi sự lan tỏa của dầu bơm khuếch tán, hệ thống bị ô nhiễm cũng có thể được làm sạch bằng phương pháp xả nitơ. Nói chung, ô nhiễm dầu có thể được loại bỏ bằng cách làm nóng hệ thống trong khi làm sạch hệ thống bằng nitơ.

2. Phản ứng xả khí

Phương pháp này đặc biệt thích hợp để làm sạch bên trong (loại bỏ ô nhiễm hydrocarbon) của các hệ thống thép không gỉ chân không cực lớn. Đối với buồng chân không và các bộ phận chân không của một số hệ thống chân không siêu cao quy mô lớn, các phương pháp tiêu chuẩn để loại bỏ ô nhiễm bề mặt là làm sạch hóa học, rang lò chân không, làm sạch xả phát sáng và hệ thống chân không nướng năng lượng ban đầu, v.v. thu được bề mặt sạch của trạng thái nguyên tử. Các phương pháp làm sạch và khử khí ở trên thường được sử dụng trước và trong khi lắp đặt hệ thống chân không. Sau khi lắp đặt (hoặc vận hành) hệ thống chân không, rất khó để khử các bộ phận khác nhau trong hệ thống chân không vì chúng đã được sửa chữa. Một khi hệ thống (vô tình) bị ô nhiễm (chủ yếu bởi các phân tử có số lượng nguyên tử lớn, chẳng hạn như hydrocarbon), nó thường được tháo rời, xử lý và sau đó cài đặt lại. Quá trình khí phản ứng có thể được sử dụng để khử khí tại chỗ. Cơ chế làm sạch của nó: khí oxy hóa (O2, N0) và khí khử (H2, N H3) được trích dẫn trong hệ thống để thực hiện làm sạch hóa học trên bề mặt kim loại để loại bỏ ô nhiễm, để có được bề mặt kim loại sạch ở trạng thái nguyên tử. Tốc độ oxy hóa / khử bề mặt phụ thuộc vào tình trạng ô nhiễm và vật liệu trên bề mặt kim loại. Tốc độ phản ứng bề mặt được kiểm soát bằng cách điều chỉnh áp suất và nhiệt độ của khí phản ứng. Đối với mỗi chất nền, các tham số chính xác được xác định bằng thực nghiệm. Các thông số này là khác nhau cho các định hướng tinh thể khác nhau.

Yêu cầu quá trình làm sạch máy sơn chân không

Vật liệu chân không nên được làm sạch trước khi xử lý chân không để loại bỏ chất gây ô nhiễm khỏi phôi hoặc bề mặt vật liệu hệ thống; Cũng rất cần thiết để làm sạch bề mặt của các bộ phận chân không, bởi vì nguồn khí và hơi gây ra bởi các chất ô nhiễm sẽ không chỉ làm cho hệ thống chân không có thể đạt được mức độ chân không cần thiết. Ngoài ra, do sự hiện diện của các chất ô nhiễm, nó cũng sẽ ảnh hưởng đến cường độ và hiệu suất bịt kín của kết nối các bộ phận chân không.

Các chất ô nhiễm có thể được định nghĩa là "bất kỳ chất hoặc năng lượng vô dụng". Theo trạng thái vật lý của các chất ô nhiễm, chúng có thể được chia thành chất rắn, khí và chất lỏng, tồn tại dưới dạng màng hoặc các hạt lỏng lẻo. Về tính chất hóa học của nó, nó có thể ở trạng thái ion hoặc cộng hóa trị, nó có thể là vô cơ hoặc hữu cơ.

Các bề mặt tiếp xúc với không khí là dễ bị ô nhiễm nhất. Có nhiều nguồn gây ô nhiễm. Hấp phụ, phản ứng hóa học, quá trình lọc và sấy khô, quá trình cơ học, và quá trình khuếch tán và phân tách đều góp phần làm tăng các chất ô nhiễm bề mặt trong các thành phần khác nhau.

Theo nhà máy xử lý lớp phủ chân không, các chất ô nhiễm phổ biến trên bề mặt vật liệu chân không như sau:

1. Mỡ: dầu nhờn, chất lỏng cắt, mỡ chân không và các chất khác bị ô nhiễm trong quá trình chế biến, lắp ráp và vận hành;

2, axit, kiềm, muối: các chất còn sót lại trong quá trình làm sạch, mồ hôi tay, khoáng chất trong nước, v.v.;

3. Ôxít bề mặt: ôxit bề mặt được hình thành bởi các vật liệu được đặt trong không khí trong một thời gian dài hoặc trong không khí ẩm;

4. Đế nước: mồ hôi tay khi hoạt động, hơi nước trong quá trình thổi, nước bọt, v.v.;

5, đánh bóng cặn và bụi và các chất hữu cơ khác trong không khí xung quanh.

Mục đích của việc làm sạch các chất ô nhiễm này là để cải thiện sự ổn định của máy sơn chân không, để công việc có thể được trơn tru hơn. Theo yêu cầu, bề mặt được làm sạch có thể được chia thành hai loại: bề mặt sạch nguyên tử và bề mặt sạch công nghệ.

Trong máy sơn chân không trước khi sử dụng vật liệu phủ vật liệu phủ để làm sạch bề mặt đơn giản có thể kéo dài tuổi thọ của máy phủ. Các chất ô nhiễm khác nhau không chỉ làm cho hệ thống chân không không thể có được mức độ chân không cần thiết mà còn ảnh hưởng đến cường độ và hiệu suất bịt kín của kết nối các bộ phận chân không. Công việc vệ sinh tại chỗ sớm có thể giảm được nhiều rắc rối, để tránh nhiều vấn đề nhỏ, hiệu quả công việc, chất lượng máy sơn chân không có vai trò rất tích cực. Nó có thể cải thiện đáng kể sự ổn định làm việc của tất cả các bức tường và các bề mặt thành phần khác trong hệ thống chân không trong các điều kiện làm việc khác nhau.

IKS PVD, nếu bạn thích, chúng tôi có thể đề xuất một máy làm sạch phù hợp cho bạn, để xử lý trước lớp phủ PVD, bất kỳ câu hỏi nào về công nghệ chân không pvd, liên hệ với chúng tôi ngay bây giờ, iks.pvd @ foxmail.com